
Dischi di molibdeno ad alta purezza
Dettagli:
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Luogo di origine: | La Cina |
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Marca: | JINXING |
Certificazione: | ISO 9001 |
Numero di modello: | Molibdeno puro Ion Implantation Components sulla vendita |
Termini di pagamento e spedizione:
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Quantità di ordine minimo: | 10 CHILOGRAMMI |
Prezzo: | negoziabile |
Imballaggi particolari: | casse del compensato |
Tempi di consegna: | 15-20 giorni |
Termini di pagamento: | L/C, T/T, D/P, Western Union |
Capacità di alimentazione: | 200 chilogrammi al mese |
Informazioni dettagliate |
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Nome di prodotto: | Molibdeno puro Ion Implantation Components sulla vendita | Grado: | Mo1 |
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Densità: | 10,2 g/cm3 | Purezza: | >=99.95% |
Resistenza alla trazione: | >MPa 320 | Allungamento: | <22> |
Norma: | ASTM B387-2010 | Applicazioni: | Modanatura di precisione |
Evidenziare: | Molibdeno puro Ion Implantation Components,Mo1 molibdeno Ion Implantation Components,Molibdeno di modellatura Ion Implantation Components di precisione |
Descrizione di prodotto
Le nostre componenti di impiantazione ionica sono fatte da molibdeno e da tungsteno dovuto la combinazione ideale di questi materiali di resistenza della corrosione, di forza e di alta conducibilità termica.
Le temperature di °C fino a 1400, di forti campi elettromagnetici, di gas trattati aggressivi e di forze meccaniche potenti causano i problemi per i materiali convenzionali. Ma non per i nostri prodotti. Le nostre componenti termoresistenti fatte da molibdeno, da tungsteno, dalla grafite o dalla ceramica eccellono dovuto la loro combinazione ideale di resistenza della corrosione, di forza materiale, di alta conducibilità termica e di purezza assoluta. 100 o più componenti di JX sono sul lavoro in ogni percorso di fascio. Assicurano che gli ioni siano generati efficientemente e siano guidati precisamente e liberamente dalle impurità lungo il percorso di fascio al wafer.
L'impiantazione ionica è un processo importante nella fabbricazione di semiconduttori. La maggior parte della parte importante di sistema impiantato è il percorso di fascio. Qui, gli ioni sono generati, concentrati, accelerati e sono mirati a verso il wafer.
I nostri prodotti.
Camere (tungsteno, molibdeno e leghe)
Filamenti (tungsteno e leghe del tungsteno)
Fessure dell'arco (tungsteno, molibdeno e leghe)
Supporti (tungsteno, molibdeno e leghe)
Catodi (tungsteno, molibdeno e leghe)
Pezzi di ricambio (tungsteno, molibdeno e leghe)
* usato per il processo di impiantazione ionica.
* usato per fabbricare i semiconduttori.
* utilizzato in metallo che finisce per l'indurimento dell'acciaio per utensili e la rifinitura della superficie.
* utilizzato nel raggio ionico che si mescola per raggiungere interfaccia classificata e per rinforzare adesione fra materiale immiscibile.
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