
Obiettivo di sputtering per leghe di titanio PVD
Dettagli:
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Luogo di origine: | La Cina |
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Marca: | High Purity Zirconium Sputtering Target |
Certificazione: | ASTM |
Numero di modello: | Piatti |
Termini di pagamento e spedizione:
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Quantità di ordine minimo: | Negoziabile |
Prezzo: | 100USD-200USd |
Imballaggi particolari: | Imballaggio standard |
Tempi di consegna: | 10-30days |
Termini di pagamento: | L/C, T/T |
Capacità di alimentazione: | 10Ton/Month |
Informazioni dettagliate |
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Stato: | Temprato | Rm (≥) /MPa: | 379 |
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Rp0.2 (PA: | 207 | A50mm (≥)/%: | 16 |
Nome: | Zirconio di elevata purezza che farfuglia obiettivo | Materiale: | Zr702, Zr704, Zr705 |
Evidenziare: | Zirconio di elevata purezza che farfuglia gli obiettivi,Zirconio dell'emulsione che farfuglia gli obiettivi,Lo zirconio dell'emulsione farfuglia l'obiettivo |
Descrizione di prodotto
Oggetto | Zirconio che farfuglia obiettivo |
Purezza | 4N |
Specificazione | Su misura |
Certificato | Iso 9001 |
Applicazione | Emulsione sottile |
Forma | planare, rotondo |
colore | argenteo |
Il nostro imballaggio
Secondo la richiesta del cliente.
Circa noi
A causa dell'alta qualità sarete soddisfatto con il nostro prodotto. Siamo una fabbricazione dell'obiettivo abbiamo nominato
Società di JX. Tutti gli obiettivi che possiamo fornire stanno comprendendo il legame, il servizio di piatto della protezione ed il recupero dello spreco. Siamo
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I nostri altri prodotti
Obiettivo *Metal: W, Mo, tum, N.B.:, Cu, V, Ni, Ti, Fe, Al, Zr, Co, Au, AG, pinta, ecc.
Obiettivo *Alloy: NiFe, NiCr, NiV, CuNi, TiAl, CoCr, CoFe, WTi, CoTaZr, CuInGa, ZnSn, CuZn, ecc
Obiettivo *Ceramic: TiO2, Al2O3, Ta2O5, ZrO2, sic, SiO, SiO2, ITO, GZO, azo, WS2, MoS2, Ga2O3, HfO2, ecc
Materiali di *Evaporation: Crogiolo, palline, granelli, pezzi, ecc
Piatto *Backing: Cu, Mo, ss, ecc
Servizio *Bonding: Indio, elastomero
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