Obiettivo di sputtering per leghe di titanio PVD
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Dettagli:
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| Luogo di origine: | La Cina |
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| Marca: | JINXING |
| Certificazione: | ISO 9001 |
| Numero di modello: | Metropolitana del cromo che farfuglia obiettivo |
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Termini di pagamento e spedizione:
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| Quantità di ordine minimo: | 1kg |
| Prezzo: | 20～100USD/kg |
| Imballaggi particolari: | CASE DI LEGNO COMPENSATO |
| Tempi di consegna: | 10~25 giorni del lavoro |
| Termini di pagamento: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
| Capacità di alimentazione: | 100000kgs/M |
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Informazioni dettagliate |
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| Materiale: | Cromo, Chrome | Processo: | CIP, pressatura del HIP |
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| Dimensione: | Su misura | applicazione: | Rivestimento di PVD, |
| Densità: | 7.19g/cm3 | Forma: | Giro, piatto, metropolitana che farfuglia obiettivo |
| Granulometria: | Dimensione a grana fine, buona densità | Purezza: | 99,5%, 99,9%, 99,95% |
| Evidenziare: | Cr della metropolitana del cromo che farfuglia obiettivo,Farfugliare obiettivo con duttilità,PVD che ricopre CIP che farfuglia obiettivo |
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Descrizione di prodotto
Il tubo del cromo che farfuglia il materiale di obiettivo è metallo brillante bianco argenteo, il cromo puro ha duttilità ed il cromo che contiene le impurità è duro e fragile. La densità è 7.19g/cm3. Sostanza solubile nella forte soluzione alcalina. Il cromo ha un'alta resistenza della corrosione e l'ossidazione è lenta nell'aria, anche nello stato del calore rosso. Insolubile in acqua. Protezione placcando sul metallo
La metropolitana del cromo che farfuglia l'obiettivo, tubo del cromo che farfuglia l'obiettivo è disponibile nelle dimensioni varianti
1. La purezza dell'obiettivo del cromo di elevata purezza è 99,5%, 99,8%, 99,95%, 99,99%
2. Specifiche comuni dell'obiettivo di grande purezza del cromo: obiettivo di grande purezza del tubo del cromo, obiettivo di grande purezza dell'anello del cromo, lunghezza 20-400mm, diametro 50-120mm, spessore 5-10mm del tubo. TiO2, TiB2, Ti3O5, ecc. possono essere plasma spruzzato sull'obiettivo del tubo del cromo, su misura secondo i vostri requisiti.
3. Processo di produzione dell'obiettivo del cromo di elevata purezza: pressatura isostatica calda, metallurgia delle polveri.
4. Particelle del cromo di elevata purezza: le dimensioni delle particelle comuni sono: 1-3mm, 3-5mm, maglia 40, - 20-300 maglia, 40 × del × 200 del × 80 del × 60 per il rivestimento di evaporazione, con l'elevata purezza ed il buon effetto di evaporazione.
5. Striscia del cromo di elevata purezza: Ø 0,3, Ø 0,5, Ø 1,0, ecc.
6. Parametri pertinenti di cromo di grande purezza: Formula: Cr
7. Aspetto: grigio d'argento
8. Specificazione: grano, polvere, materiale di obiettivo, barra.
| Gradi: | Chrome che farfuglia obiettivo |
| Purezza: 99,5%, 99,9%, 99,95% | |
| Lega del cromo | AlCr, CrAl, CrSi, TiCr ecc |
| Densità: | 7.19g/cm3 |
| Forma: | Intorno a forma, forma della metropolitana e forma del piatto. |
Attraverso la pressatura isostatica, la fusione e le metallurgie delle polveri (fredde) calde del metallo, la nostra società si specializza nella produzione del magnetron vario che farfuglia gli obiettivi: obiettivo del cromo, obiettivo di alluminio, obiettivo di rame, obiettivo d'argento, obiettivo di alluminio dello zinco, obiettivo di rame del selenio del gallio dell'indio, obiettivo di rame dell'indio, obiettivo di rame del gallio dell'indio, obiettivo del tellurio dell'antimonio del germanio, obiettivo dell'ossido del manganese dello stronzio del lantanio, obiettivo dell'ossido del manganese del bismuto del ferro, obiettivo del cromo, obiettivo del cromo del nichel, obiettivo dello zinco, obiettivo di alluminio, obiettivo del magnesio, obiettivo dell'afnio, obiettivo dello scandio, obiettivo del silicio, obiettivo del silicio, obiettivo del tellurio, obiettivo del niobio, obiettivo del tantalio, obiettivo del cromo del cobalto, obiettivo di alluminio dell'iridio, obiettivo di alluminio dell'iridio del cromo del ferro, obiettivo del carburo del boro, obiettivo del nitruro di boro, obiettivo di titanio del nitruro, obiettivo monocristallino del silicio, obiettivo policristallino del silicio, silicio obiettivo del diossido, obiettivo del biossido di titanio, obiettivo dell'ossido di alluminio, obiettivo del titanato dello stronzio, obiettivo del titanato del bario, obiettivo di biossido di zirconio, obiettivo dell'ossido dell'afnio, obiettivo dell'ossido di rame, obiettivo dell'ossido del manganese, obiettivo dell'ossido di magnesio, obiettivo dell'ossido di zinco, obiettivo del solfuro dello zinco, obiettivo del solfuro di cadmio, obiettivo del nitruro di boro, obiettivo del carburo di silicio, obiettivo dell'ossido dell'ittrio, obiettivo dell'ossido di zinco, obiettivo del titanato dello stronzio, obiettivo d'argento della lega del tellurio dell'antimonio dell'indio, obiettivo del tellururo dell'indio, obiettivo del rutenio, obiettivo del palladio, obiettivo dell'iridio, obiettivo dell'oro, obiettivo del platino, obiettivo d'argento, obiettivo dell'osmio, obiettivo dell'azo, obiettivo di ITO, obiettivo del tellururo di cadmio, obiettivo del solfuro di cadmio, obiettivo del tellururo dello zinco, obiettivo del seleniuro dell'indio, obiettivo di rame del seleniuro, l'ossido del manganese dello stronzio del lantanio e gli altro obiettivi del metallo, obiettivo della lega, obiettivo ceramico, substrato di silicio monocristallino, substrato dell'ossido di silicio, substrato dell'allumina, ecc. pricipalmente secondo i requisiti specifici dei clienti, elaboriamo le vari specifiche e materiali di obiettivo di vari ingredienti. I nostri prodotti hanno luogo del prezzo più di alta qualità e più basso e di breve termine di consegna. Manteniamo i buoni contatti di affari con molti fabbriche ricoprenti domestiche, produttori della macchina di rivestimento, istituzioni di ricerca scientifica ed università domestiche e straniere. Attualmente, la nostra società sta fornendo ai clienti lo spazio comune della crescita e sviluppo con i prodotti di alta qualità, i servizi sistematici e la gestione scientifica.
Applicazione:
1. Purezze 99% - 99,5% del cromo del metallo: usato per gli additivi della lega, il cermet, la metallurgia delle polveri, la lega dura, gli strumenti del diamante, i prodotti del diamante, lega elettrica, fonde il cavo svuotato, i materiali di saldatura, gli additivi della lega di alluminio, i materiali di spruzzatura termici, i materiali resistenti all'uso ad alta temperatura ed alti, i materiali ricoprenti ottici, i prodotti chimici, ecc.
2. Purezza dei cromi 99,5% - 99,9% del metallo: usato per applicazione a spruzzo fisica, la lega ad alta temperatura, le materie prime di pressatura isostatica dell'obiettivo caldo del cromo, il cermet, l'aggiunta dura della lega, i materiali di saldatura, gli strumenti del diamante, il rivestimento del laser, la spruzzatura, ecc.
3. La purezza del cromo del metallo è più di 99,9%; è usata per i materiali, le turbine a vapore, gli obiettivi del rivestimento, ecc. aerospaziali.
| Tipo | Applicazione | Lega principale | Richiesta |
| Semiconduttore | Preparazione dei materiali del centro per i circuiti integrati | Titanio di W. Tungsten (WTI), lega del Ti, di tum, di Al, Cu, ecc., con una purezza di più di 4N o di 5N |
Più alti requisiti tecnici, metallo ultraelevato di purezza, dimensione di alta precisione, alta integrazione
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| Visualizzazione | Farfugliare la tecnologia assicura l'uniformità di produzione cinematografica, migliora la produttività e riduce il costo | Obiettivo del niobio, obiettivo del silicio, obiettivo del Cr, obiettivo del molibdeno, MoNb, obiettivo di Al, obiettivo della lega di alluminio, obiettivo di rame, obiettivo della lega di rame |
Alti requisiti tecnici, materiali di grande purezza, grande area materiale e alto livello di uniformità
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| Decori | È usato per ricoprire sulla superficie dei prodotti per abbellire l'effetto di resistenza all'usura e di resistenza della corrosione |
Obiettivo del cromo, obiettivo di titanio, zirconio (Zr), nichel, tungsteno, alluminio di titanio, CRSI, CrTi, cralzr, obiettivo di acciaio inossidabile
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pricipalmente usato per la decorazione, il risparmio energetico, ecc |
| Lavorazione con utensili |
Rinforzi la superficie degli strumenti e le muffe, migliorano il tempo di impiego e la qualità delle parti fabbricate
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Obiettivo di TiAl, obiettivo di Al del Cr, obiettivo del Cr, obiettivo del Ti, latta, tic, Al203, ecc | Alti requisiti prestazionali e tempo di impiego lungo |
| Fotovoltaico solare | Tecnologia farfugliata del film sottile per la lavorazione delle pile solari della quarta generazione del film sottile | Obiettivo dell'ossido di alluminio dello zinco, obiettivo dell'ossido di zinco, obiettivo di alluminio dello zinco, obiettivo del molibdeno, obiettivo del solfuro di cadmio (CD), selenio di rame del gallio dell'indio, ecc | Ampia applicazione |
| Accessori elettronici |
Per resistenza del film e la capacità del film
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Obiettivo di NiCr, obiettivo di NiCr, obiettivo di si del Cr, obiettivo di tum, obiettivo di Al di NiCr, ecc | La stabilità di piccola dimensione e buona ed il piccolo coefficiente di temperatura della resistenza sono richiesti per gli apparecchi elettronici |
| Memorizzazione dei dati |
Per la fabbricazione della memoria magnetica
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Il Cr basato, Co ha basato, Fe basato, Ni di CO ha basato le leghe | Alta densità di stoccaggio, alta velocità della trasmissione |
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STREGARE MATECH è un fornitore esperto sulla soluzione del metallo. Particolarmente sui prodotti quali il rame della lega del tungsteno, del tungsteno, il titanio, lo zirconio, il vanadio, l'afnio, farfugliare obiettivo, il metallo ecc Nobel,
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