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Casa ProdottiFarfugliare gli obiettivi99,95% obiettivi planari ricoprenti di Moly del molibdeno di purezza PVD
99.95% Purity PVD Coating Molybdenum Moly Planar Targets
99.95% Purity PVD Coating Molybdenum Moly Planar Targets 99.95% Purity PVD Coating Molybdenum Moly Planar Targets

99,95% obiettivi planari ricoprenti di Moly del molibdeno di purezza PVD

Dettagli:
Luogo di origine: La CINA
Marca: JINXING
Certificazione: ISO 9001
Numero di modello: Molibdeno che farfuglia obiettivo
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1Kg
Imballaggi particolari: Cassa del compensato
Tempi di consegna: 10~25 giorni del lavoro
Termini di pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacità di alimentazione: 100000kgs/M
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Informazioni dettagliate
Materiale: Obiettivo planare di Moly dell'obiettivo del molibdeno Colore/aspetto: Grigio, metallico
Dimensione: Su misura Applicazione: sistema di rivestimento del pvd
Forma: giro, obiettivo, disco Granulometria: Dimensione a grana fine, buona densità
Purezza:: 99,95% Densità: 10.2g/cm3
Evidenziare:

Obiettivi planari di Moly del molibdeno

,

PVD che ricopre gli obiettivi planari di Moly

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99

Descrizione di prodotto

Obiettivo planare di Moly dell'obiettivo del molibdeno

 

La nostra offerta completa del farfugliare arrivo, partenza di evaporazione ed altri materiali del deposito, molibdeno è categorizzata come metallo di transizione sulla Tabella periodica. È grigio metallico nell'aspetto con un punto di fusione di 2,617°C, una densità di 10,2 g/cc e una pressione di vapore di 10-4 torr a 2,117°C. dovuto la suoi forza e punto ad elevato punto di fusione, molibdeno soprattutto è unito in lega con altri metalli per fare i materiali resistenti alla corrosione e può essere trovato in strumenti, nelle parti degli aerei e nei contatti elettrici. Il molibdeno è evaporato sotto vuoto per fare le esposizioni, i semiconduttori ed i sensori avanzati.

Il nostro obiettivo planare di Moly dell'obiettivo del molibdeno ha elevata purezza & densità e la microstruttura uniforme che possono applicarsi perfettamente nel deposito dei film sottili nelle esposizioni di TFT ed in altre industrie relative. Sia molibdeno del multi-pezzo che di singolo gli obiettivi planari sono disponibili

Nome dell'oggetto obiettivi del molibdeno
Purezza 99.99%~99.995%
Forma Obiettivo rotondo/secondo la vostra richiesta
Dimensione disponibile

1.Ø30--2000mm, spessore 3.0mm--300mm

2.Plate Targe: Lunghezza: larghezza di 200-500mm: spessore di 100-230mm: 3--40mm

3.Customized è disponibile
Certificati ISO9001: 2008, SGS, la terza relazione sull'esperimento
Tecniche Forgiato ed il CNC ha lavorato
Superficie Superficie del tornio di CNC.
Applicazione 1. Placcatura elettrolitica;
2. organizzazione chimica & tecnologia petrochimica;
3. medico

 

Nome di prodotto Elemento Purirty ℃ di punto di fusione Densità (g/cc) Forme disponibili
Alto nastro puro AG 4N-5N 961 10,49 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto alluminio puro Al 4N-6N 660 2,7 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto oro puro Au 4N-5N 1062 19,32 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto bismuto puro Bi 5N-6N 271,4 9,79 Particella, obiettivo
Alto cadmio puro CD 5N-7N 321,1 8,65 Particella, obiettivo
Alto cobalto puro Co 4N 1495 8,9 Particella, obiettivo
Alto cromo puro Cr 3N-4N 1890 7,2 Particella, obiettivo
Alto rame puro Cu 3N-6N 1083 8,92 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto ferro puro Fe 3N-4N 1535 7,86 Particella, obiettivo
Alto germanio puro GE 5N-6N 937 5,35 Particella, obiettivo
Alto indio puro In 5N-6N 157 7,3 Particella, obiettivo
Alto magnesio puro Mg 4N 651 1,74 Cavo, particella, obiettivo
Alto magnesio puro Mn 3N 1244 7,2 Cavo, particella, obiettivo
Alto molibdeno puro Mo 4N 2617 10,22 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto niobio puro N.B.: 4N 2468 8,55 Cavo, obiettivo
Alto nichel puro Ni 3N-5N 1453 8,9 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto cavo puro Pb 4N-6N 328 11,34 Particella, obiettivo
Alto palladio puro Palladio 3N-4N 1555 12,02 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto platino puro Pinta 3N-4N 1774 21,5 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto silicio puro Si 5N-7N 1410 2,42 Particella, obiettivo
Alta latta pura Sn 5N-6N 232 7,75 Cavo, particella, obiettivo
Alto tantalio puro Tum 4N 2996 16,6 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto tellurio puro Te 4N-6N 425 6,25 Particella, obiettivo
Alto titanio puro Ti 4N-5N 1675 4,5 Cavo, particella, obiettivo
Alto tungsteno puro W 3N5-4N 3410 19,3 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto zinco puro Zn 4N-6N 419 7,14 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto zirconio puro Zr 4N 1477 6,4 Cavo, strato, particella, obiettivo

 

Immagine planare dell'obiettivo di Moly dell'obiettivo del molibdeno:

99,95% obiettivi planari ricoprenti di Moly del molibdeno di purezza PVD 0

99,95% obiettivi planari ricoprenti di Moly del molibdeno di purezza PVD 1

Prodotto Tag:

Tungsteno che farfuglia obiettivo

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il titanio farfuglia l'obiettivo

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