Obiettivo rotondo di titanio di elevata purezza
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Dettagli:
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| Luogo di origine: | CINESE |
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| Marca: | JX |
| Certificazione: | ISO9001 |
| Numero di modello: | Leghe di titanio |
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Termini di pagamento e spedizione:
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| Imballaggi particolari: | casse del compensato |
| Tempi di consegna: | 25 giorni |
| Termini di pagamento: | L/C, D/A, D/P, Western Union |
| Capacità di alimentazione: | 500kg al mese |
Descrizione di prodotto
Descrizione dell'obiettivo di sputtering per leghe di titanio PVD
La tecnologia di rivestimento PVD converte fisicamente un materiale dallo stato solido a uno stato gassoso, che viene quindi depositato su un substrato bersaglio per formare una pellicola sottile.Le proprietà del materiale bersaglio influenzano direttamente la qualitàPVD Titanio Legato Sputtering Target PVD Titanio Legato Sputtering Target è realizzato in materiali di alta qualità di leghe di titanio (come l'alluminio di titanio,Il cromo o il nichel) ottenuto mediante fusione a vuoto o pressatura isostatica a caldo.L'obiettivo di sputtering in lega di titanio PVD ha un'elevata resistenza specifica, eccellente resistenza alla corrosione e all'ossidazione, resistenza alle alte temperature, resistenza all'usura, buona biocompatibilità, elevata qualità del rivestimento e eccellenti caratteristiche.È ampiamente utilizzato nei dispositivi semiconduttori, rivestimenti duri e anti-corrosione (migliorano la durezza e la durata dell'utensile), rivestimenti decorativi (trattamento superficiale di vari colori e lucentezza).
Specifiche per i bersagli di sputtering per leghe di titanio PVD:
| Grado | Gr4,Gr5,Gr7,Gr12,Gr23 |
| Tecnica | Lavorazione per la fabbricazione di prodotti di base per la fabbricazione di prodotti di base |
| Purezza | ≥ 99,95% |
| Diametro | < 400 mm |
| Spessore | 10 - 50 mm |
| Densità | 40,52 g/cm3 |
| Superficie | Polito, lucido, macinato |
| Norme | ASTM F67,ASTMB381,ASTM F136 |
| Tempo di consegna | 25 giorni |
| Certificazione | ISO9001 |
Immagine bersaglio per lo sputtering in lega di titanio PVD
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