Nuovo obiettivo di rame materiale farfugliare con elevata purezza ultra 99,9999%

Dettagli:
Luogo di origine: La Cina
Marca: JINXING
Certificazione: ISO 9001
Numero di modello: Obiettivo di rame farfugliare
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1kg
Prezzo: 15~100USD/kg
Imballaggi particolari: CASE DI LEGNO COMPENSATO
Tempi di consegna: 10~25 giorni del lavoro
Termini di pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacità di alimentazione: 100000kgs/M

Informazioni dettagliate

Materiale: Rame Processo: CIP, pressatura del HIP
Dimensione: Su misura applicazione: Rivestimento di PVD,
Densità: 8.96g/cm3 Forma: Giro, piatto, metropolitana che farfuglia obiettivo
Granulometria: Dimensione a grana fine, buona densità Purezza: 99,999%, 99,9999%
Evidenziare:

Farfugliando obiettivo con 99

,

9999% ultra

,

Obiettivo di rame farfugliare di elevata purezza

Descrizione di prodotto

Farfugliare di rame mira all'elevata purezza ultra 99,999%, 99,9999%

il rame elettrolitico della purezza ultraelevata 6N pricipalmente è utilizzato nella produzione di farfugliare l'obiettivo, il film di evaporazione ed i materiali dell'anodo per i circuiti integrati.

 

Purezza: 99,999% ~ 99,9999%

Per controllo preciso del contenuto di impurità, il contenuto dell'AG può essere controllato sotto 0.1ppm ed il contenuto di s sotto 0.02ppm

 

Il contenuto degli elementi del gas (C, la O, la N, H) è di meno che 1ppm

Utilizzazioni principali: il rame 6N ha alcune proprietà simili ad oro, la buona conducibilità, duttilità, resistenza della corrosione e la prestazione della superficie e la temperatura ammorbidente bassa. Come nuovo genere di materiale, il rame di grande purezza non solo è utilizzato nella preparazione dei materiali standard analitici di grande purezza della prova, vari cavi di collegamento per l'industria elettronica, leganti i cavi per l'imballaggio elettronico, i cavi audio di alta qualità ed i circuiti integrati, farfugliare gli obiettivi per il rivestimento dello ione e del display a cristalli liquidi, ma un materiale anche indispensabile e prezioso nell'energia atomica, nel razzo, nel missile, nell'aviazione, nello spazio aereo e nelle industrie metallurgiche. Come nuovo materiale, il rame ultra puro è stato pagato sempre più l'attenzione. Oltre alla preparazione dei materiali standard analitici di grande purezza della prova, vari cavi di collegamento per l'industria elettronica, cavi leganti per l'imballaggio elettronico, cavi audio di alta qualità e circuiti integrati, farfugliando gli obiettivi e rivestimento dello ione per il display a cristalli liquidi, audio circuiti di alta qualità ed altri campi alta tecnologia, il rame di grande purezza inoltre è utilizzato nell'energia atomica, i razzi, i missili, l'aviazione, navigazione spaziale ed altri materiali preziosi dei campi sono indispensabili nell'industria metallurgica. Con lo sviluppo del livello e della nuova tecnologia ed il bisogno dei materiali strategici, i metalli di grande purezza hanno più alti e più alti requisiti della purezza. La preparazione e l'applicazione dei metalli della ultra-alto-purezza e di grande purezza in scienza e ingegneria dei materiali moderne sono nuovi e campi crescenti.

 

L'obiettivo di rame 99,9999% farfugliare, obiettivo di rame 99,999% farfugliare è disponibile nelle dimensioni varianti

Dimensioni:

 

Piatto che farfuglia gli obiettivi:

 

Spessore: 0,04 - 1,40» (1,0 - 35mm).

Larghezza fino a 20" (50 - 500mm).

Lunghezza: 3,9" a 6,56 piedi (100-2000mm)

altre dimensioni come richiesto.

 

Cilindro che farfuglia gli obiettivi:

 

3,94 diametro x 1,58» (100 diametro x 40mm)

2,56 diametro x 1,58» (65 diametro x 40mm)

o 63*32mm altre dimensioni come richiesto.

 

Metropolitana che farfuglia gli obiettivi:

 

2,76 OD x 0,28 PESI x 39,4" L (70 OD x 7 PESI x 1000mm L)

3,46 OD x 0,39 PESI x 48,4" L (88 OD x 10 PESI x 1230mm L)

altre dimensioni come richiesto.

 

Vantaggio:

 

 

1. Purezza: 99,99% ~ 99,9999%

2. Alta densità, nessun difetti dentro, anche grani e superficie regolare

3. Fusione unica e processo fondente di lotta contro l'inquinamento

4. Può soddisfare le esigenze della lega su misura

5. Tecnologia unica di controllo di omogeneizzazione degli elementi aggiunti

6. Controllo unificato di microstruttura

 

 

 
Nome di prodotto Elemento Purirty ℃ di punto di fusione Densità (g/cc) Forme disponibili
Alto nastro puro AG 4N-5N 961 10,49 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto alluminio puro Al 4N-6N 660 2,7 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto oro puro Au 4N-5N 1062 19,32 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto bismuto puro Bi 5N-6N 271,4 9,79 Particella, obiettivo
Alto cadmio puro CD 5N-7N 321,1 8,65 Particella, obiettivo
Alto cobalto puro Co 4N 1495 8,9 Particella, obiettivo
Alto cromo puro Cr 3N-4N 1890 7,2 Particella, obiettivo
Alto rame puro Cu 3N-6N 1083 8,92 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto ferro puro Fe 3N-4N 1535 7,86 Particella, obiettivo
Alto germanio puro GE 5N-6N 937 5,35 Particella, obiettivo
Alto indio puro In 5N-6N 157 7,3 Particella, obiettivo
Alto magnesio puro Mg 4N 651 1,74 Cavo, particella, obiettivo
Alto magnesio puro Mn 3N 1244 7,2 Cavo, particella, obiettivo
Alto molibdeno puro Mo 4N 2617 10,22 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto niobio puro N.B.: 4N 2468 8,55 Cavo, obiettivo
Alto nichel puro Ni 3N-5N 1453 8,9 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto cavo puro Pb 4N-6N 328 11,34 Particella, obiettivo
Alto palladio puro Palladio 3N-4N 1555 12,02 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto platino puro Pinta 3N-4N 1774 21,5 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto silicio puro Si 5N-7N 1410 2,42 Particella, obiettivo
Alta latta pura Sn 5N-6N 232 7,75 Cavo, particella, obiettivo
Alto tantalio puro Tum 4N 2996 16,6 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto tellurio puro Te 4N-6N 425 6,25 Particella, obiettivo
Alto titanio puro Ti 4N-5N 1675 4,5 Cavo, particella, obiettivo
Alto tungsteno puro W 3N5-4N 3410 19,3 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto zinco puro Zn 4N-6N 419 7,14 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto zirconio puro Zr 4N 1477 6,4 Cavo, strato, particella, obiettivo

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