Il cromo che farfuglia l'obiettivo, obiettivo del cromo è disponibile nelle dimensioni varianti
Il processo tradizionale della sinterizzazione del cromo di elevata purezza che farfuglia l'obiettivo pronto dalle metallurgie delle polveri è analizzato ed ottimizzato. I risultati sperimentali indicano che la densità dell'obiettivo può efficacemente essere garantita elaborando l'obiettivo farfugliare con «la muffa che preme + che sinterizza» o «che preme isostatico freddo + che sinterizza» e che controlla la temperatura della sinterizzazione ragionevolmente.
| Gradi: |
Chrome che farfuglia obiettivo |
| |
Purezza: 99,5%, 99,9%, 99,95% |
| Lega del cromo |
AlCr, CrAl, CrSi, TiCr ecc |
| Densità: |
7.19g/cm3 |
| Forma: |
Intorno a forma, forma della metropolitana e forma del piatto. |
Dimensioni:
Piatto che farfuglia gli obiettivi:
Spessore: 0,04 - 1,40» (1,0 - 35mm).
Larghezza fino a 20" (50 - 500mm).
Lunghezza: 3,9" a 6,56 piedi (100-2000mm)
altre dimensioni come richiesto.
Cilindro che farfuglia gli obiettivi:
3,94 diametro x 1,58» (100 diametro x 40mm)
2,56 diametro x 1,58» (65 diametro x 40mm)
o 63*32mm altre dimensioni come richiesto.
Metropolitana che farfuglia gli obiettivi:
2,76 OD x 0,28 PESI x 39,4" L (70 OD x 7 PESI x 1000mm L)
3,46 OD x 0,39 PESI x 48,4" L (88 OD x 10 PESI x 1230mm L)
altre dimensioni come richiesto.
L'effetto dei metodi di lavorazione differenti sulla densità di sinterizzazione dell'obiettivo del cromo. Nel corso della pressatura meccanica, la pressatura bidirezionale è adottata senza alcuni agente e deoxidizer di modellatura. La densità dell'obiettivo dell'anello del Cr è 78% - 80% dalla pressatura meccanica + la sinterizzazione di vuoto; la densità dell'obiettivo del piatto del Cr che farfuglia l'obiettivo è più di 82% dalla pressatura isostatica fredda + la sinterizzazione di vuoto; dopo il rotolamento, la densità dell'obiettivo del piatto del Cr è aumentata a 90% - 95%; la densità dell'obiettivo farfugliare della lega del Cr è più di 98% dalla pressatura a caldo. Ottimizzando il tempo e la temperatura della sinterizzazione, il costo della sinterizzazione dell'obiettivo dell'anello del cromo notevolmente è ridotto.
Applicazione:
1. Purezze 99% - 99,5% del cromo del metallo: usato per gli additivi della lega, il cermet, la metallurgia delle polveri, la lega dura, gli strumenti del diamante, i prodotti del diamante, lega elettrica, fonde il cavo svuotato, i materiali di saldatura, gli additivi della lega di alluminio, i materiali di spruzzatura termici, i materiali resistenti all'uso ad alta temperatura ed alti, i materiali ricoprenti ottici, i prodotti chimici, ecc.
2. Purezza dei cromi 99,5% - 99,9% del metallo: usato per applicazione a spruzzo fisica, la lega ad alta temperatura, le materie prime di pressatura isostatica dell'obiettivo caldo del cromo, il cermet, l'aggiunta dura della lega, i materiali di saldatura, gli strumenti del diamante, il rivestimento del laser, la spruzzatura, ecc.
3. La purezza del cromo del metallo è più di 99,9%; è usata per i materiali, le turbine a vapore, gli obiettivi del rivestimento, ecc. aerospaziali.
| Tipo |
Applicazione |
Lega principale |
Richiesta |
| Semiconduttore |
Preparazione dei materiali del centro per i circuiti integrati |
Titanio di W. Tungsten (WTI), lega del Ti, di tum, di Al, Cu, ecc., con una purezza di più di 4N o di 5N |
Più alti requisiti tecnici, metallo ultraelevato di purezza, dimensione di alta precisione, alta integrazione
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| Visualizzazione |
Farfugliare la tecnologia assicura l'uniformità di produzione cinematografica, migliora la produttività e riduce il costo |
Obiettivo del niobio, obiettivo del silicio, obiettivo del Cr, obiettivo del molibdeno, MoNb, obiettivo di Al, obiettivo della lega di alluminio, obiettivo di rame, obiettivo della lega di rame |
Alti requisiti tecnici, materiali di grande purezza, grande area materiale e alto livello di uniformità
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| Decori |
È usato per ricoprire sulla superficie dei prodotti per abbellire l'effetto di resistenza all'usura e di resistenza della corrosione |
Obiettivo del cromo, obiettivo di titanio, zirconio (Zr), nichel, tungsteno, alluminio di titanio, CRSI, CrTi, cralzr, obiettivo di acciaio inossidabile
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pricipalmente usato per la decorazione, il risparmio energetico, ecc |
| Lavorazione con utensili |
Rinforzi la superficie degli strumenti e le muffe, migliorano il tempo di impiego e la qualità delle parti fabbricate
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Obiettivo di TiAl, obiettivo di Al del Cr, obiettivo del Cr, obiettivo del Ti, latta, tic, Al203, ecc |
Alti requisiti prestazionali e tempo di impiego lungo |
| Fotovoltaico solare |
Tecnologia farfugliata del film sottile per la lavorazione delle pile solari della quarta generazione del film sottile |
Obiettivo dell'ossido di alluminio dello zinco, obiettivo dell'ossido di zinco, obiettivo di alluminio dello zinco, obiettivo del molibdeno, obiettivo del solfuro di cadmio (CD), selenio di rame del gallio dell'indio, ecc |
Ampia applicazione |
| Accessori elettronici |
Per resistenza del film e la capacità del film
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Obiettivo di NiCr, obiettivo di NiCr, obiettivo di si del Cr, obiettivo di tum, obiettivo di Al di NiCr, ecc |
La stabilità di piccola dimensione e buona ed il piccolo coefficiente di temperatura della resistenza sono richiesti per gli apparecchi elettronici |
| Memorizzazione dei dati |
Per la fabbricazione della memoria magnetica
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Il Cr basato, Co ha basato, Fe basato, Ni di CO ha basato le leghe |
Alta densità di stoccaggio, alta velocità della trasmissione |
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