Tungsteno a grana fine di dimensione che farfuglia obiettivo con l'anca/Cip/processo della forgia

Il tungsteno che farfuglia l'obiettivo è un substrato importante affinchè il film di ossido del tungsteno realizzi la sua transizione funzionale nel dispositivo a semiconduttore. dovuto il punto ad elevato punto di fusione di tungsteno, obiettivi del tungsteno pricipalmente sono preparati dalle metallurgie delle polveri

dovuto la suoi stabilità ad alta temperatura, alta resistenza del trasporto dell'elettrone ed alto coefficiente dell'emissione di elettrone, tungsteno refrattario del metallo e leghe del tungsteno sono stati ampiamente usato nella fabbricazione del circuito integrato della larga scala a semiconduttore. Obiettivi di grande purezza della lega del tungsteno e del tungsteno per i semiconduttori. I campi dell'applicazione, i requisiti prestazionali ed i metodi della preparazione dei materiali sono stati analizzati dettagliatamente ed il trend di sviluppo è stato indagato. Gli obiettivi di grande purezza della lega del tungsteno e del tungsteno pricipalmente sono usati per fabbricare gli elettrodi di portone, i collegamenti del collegamento e le barriere di diffusione dei circuiti integrati a semiconduttore. Ecc.,

ci sono requisiti estremamente alti della purezza dell'uniformità dei materiali, del contenuto di impurità, di densità, di granulometria e della struttura del grano. Gli obiettivi di grande purezza della lega del tungsteno e del tungsteno principale utilizzazione la pressatura a caldo, la pressatura isostatica calda, ecc. per mezzo di sinterizzazione per media frequenza + pressione che elabora, di grande purezza, gli obiettivi ad alta densità del tungsteno possono essere preparati, ma il controllo dell'uniformità della struttura del grano e di granulometria, non è buono come obiettivi del tungsteno pronti dalla pressatura isostatica calda.

L'obiettivo sinterizzato del tungsteno per farfugliare, ha caratterizzato in quanto che esibisce una densità relativa di 99% o più, un diametro di grano di cristallo medio di 100 m. o più di meno, un tenore di ossigeno di 20 PPM o più di meno e di una forza di deviazione del MPa 500 o più e di un metodo per la preparazione dell'obiettivo del tungsteno con la stabilità ad un basso costo, che usa i termini migliori di produzione per una polvere del tungsteno di materia prima e gli stati migliori della sinterizzazione. L'obiettivo sinterizzato del tungsteno ha un alto livello di densità e di un alto livello della finezza di un sistema cristallino che non sono stati raggiunti mai con un metodo convenzionale di sinterizzazione sotto pressione e contrassegnato sono migliorati nella forza di deviazione, che ha provocato la diminuzione significativa nell'avvenimento dei difetti della particella.

Materiale: Tungsteno

Circostanza: terra

Applicazione: Industria del rivestimento di PVD, tubo radiogeno ecc.