Obiettivo rotabile farfugliare dello zirconio per alta densità del sistema di rivestimento di PVD
Dettagli:
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Luogo di origine: | La Cina |
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Marca: | JINXING |
Certificazione: | ISO 9001 |
Numero di modello: | obiettivo di titanio farfugliare di elevata purezza |
Termini di pagamento e spedizione:
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Quantità di ordine minimo: | 1kg |
Prezzo: | 20~200USD/kg |
Imballaggi particolari: | CASE DI LEGNO COMPENSATO |
Tempi di consegna: | 10~25 giorni del lavoro |
Termini di pagamento: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Capacità di alimentazione: | 100000kgs/M |
Informazioni dettagliate |
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Forma: | Giro, piatto, metropolitana | Processo: | CIP, pressatura del HIP |
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Dimensione: | Su misura | applicazione: | sistema di rivestimento del pvd |
Materiale: | obiettivo di titanio farfugliare di elevata purezza | Granulometria: | Dimensione a grana fine, buona densità |
Purezza:: | 99,95%, 99,99%, 99,999% | Densità: | 4.52g/cm3 |
Evidenziare: | Il titanio a grana fine di dimensione farfuglia l'obiettivo,Obiettivo di titanio di elevata purezza,4 |
Descrizione di prodotto
Materiale di elevata purezza, materiale ultraelevato di purezza, materiale di elevata purezza a semiconduttore
Il mondo dei materiali fornisce i materiali di grande purezza da 4N a 7N: mentre le materie prime dell'industria a semiconduttore e dell'industria elettronica, materiali di grande purezza sono ampiamente usate in vari campi industriali, compreso le coperture luminescenti del campo, thermoelectronics, l'elettronica, le informazioni, l'infrarosso, le pile solari, le leghe ad alto rendimento, ecc. stregare il matech assicura una gamma completa di materiali ultraelevati della purezza per soddisfare le esigenze dei clienti nazionali ed internazionali. Non solo forniamo le materie prime di grande purezza, ma anche possiamo fare le varie materie prime di grande purezza per i clienti, quale il magnetron ultraelevato del metallo della purezza farfugliare l'obiettivo, magnetron della pila solare farfugliare l'obiettivo, materiale di rivestimento solare di evaporazione del film, vergella di grande purezza elettronica, striscia, polvere…
Magnetron che farfuglia il materiale di obiettivo che forma metodo: il metodo di formazione materiale è selezionato secondo la prestazione di prodotto ed i requisiti differenti dei clienti. In generale, quando il punto di fusione dei materiali è basso, è necessario da usare il vuoto che si fonde, fondente, forgiante e rotolante per eliminare la porosità. Naturalmente, l'efficace trattamento termico è necessario da raffinare il materiale uniforme del grano. I materiali con punto ad elevato punto di fusione (o materiali con alta fragilità) sono costituiti dalla pressatura a caldo o dalla pressatura isostatica calda e da alcuna sono costituiti dalla pressatura isostatica fredda e poi sono sinterizzati. Tutti i tipi di materiali di obiettivo farfugliare forniti dalla nostra società hanno la tecnologia adeguata, l'alta densità, il grano uniforme e tempo di impiego lungo…
Titanio di elevata purezza che farfuglia obiettivo 99,99%, titanio di elevata purezza che farfuglia obiettivo 99,999%
sia disponibile nelle dimensioni varianti
D100x40mm, D101.6x6.35mm ecc
Nome di prodotto | Elemento | Purirty | ℃ di punto di fusione | Densità (g/cc) | Forme disponibili |
Alto nastro puro | AG | 4N-5N | 961 | 10,49 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto alluminio puro | Al | 4N-6N | 660 | 2,7 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto oro puro | Au | 4N-5N | 1062 | 19,32 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto bismuto puro | Bi | 5N-6N | 271,4 | 9,79 | Particella, obiettivo |
Alto cadmio puro | CD | 5N-7N | 321,1 | 8,65 | Particella, obiettivo |
Alto cobalto puro | Co | 4N | 1495 | 8,9 | Particella, obiettivo |
Alto cromo puro | Cr | 3N-4N | 1890 | 7,2 | Particella, obiettivo |
Alto rame puro | Cu | 3N-6N | 1083 | 8,92 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto ferro puro | Fe | 3N-4N | 1535 | 7,86 | Particella, obiettivo |
Alto germanio puro | GE | 5N-6N | 937 | 5,35 | Particella, obiettivo |
Alto indio puro | In | 5N-6N | 157 | 7,3 | Particella, obiettivo |
Alto magnesio puro | Mg | 4N | 651 | 1,74 | Cavo, particella, obiettivo |
Alto magnesio puro | Mn | 3N | 1244 | 7,2 | Cavo, particella, obiettivo |
Alto molibdeno puro | Mo | 4N | 2617 | 10,22 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto niobio puro | N.B.: | 4N | 2468 | 8,55 | Cavo, obiettivo |
Alto nichel puro | Ni | 3N-5N | 1453 | 8,9 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto cavo puro | Pb | 4N-6N | 328 | 11,34 | Particella, obiettivo |
Alto palladio puro | Palladio | 3N-4N | 1555 | 12,02 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto platino puro | Pinta | 3N-4N | 1774 | 21,5 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto silicio puro | Si | 5N-7N | 1410 | 2,42 | Particella, obiettivo |
Alta latta pura | Sn | 5N-6N | 232 | 7,75 | Cavo, particella, obiettivo |
Alto tantalio puro | Tum | 4N | 2996 | 16,6 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto tellurio puro | Te | 4N-6N | 425 | 6,25 | Particella, obiettivo |
Alto titanio puro | Ti | 4N-5N | 1675 | 4,5 | Cavo, particella, obiettivo |
Alto tungsteno puro | W | 3N5-4N | 3410 | 19,3 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto zinco puro | Zn | 4N-6N | 419 | 7,14 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
Alto zirconio puro | Zr | 4N | 1477 | 6,4 | Cavo, strato, particella, obiettivo |
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