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Casa ProdottiFarfugliare gli obiettiviNicheli farfugliare gli obiettivi per le applicazioni 8.9g/Cm3 della ricerca e commerciali
Nickel Sputtering Targets For Commercial And Research Applications 8.9g/Cm3
Nickel Sputtering Targets For Commercial And Research Applications 8.9g/Cm3 Nickel Sputtering Targets For Commercial And Research Applications 8.9g/Cm3 Nickel Sputtering Targets For Commercial And Research Applications 8.9g/Cm3

Nicheli farfugliare gli obiettivi per le applicazioni 8.9g/Cm3 della ricerca e commerciali

Dettagli:
Luogo di origine: La Cina
Marca: JINXING
Certificazione: ISO 9001
Numero di modello: Nichel che farfuglia obiettivo
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1kg
Prezzo: 20～150USD/kg
Imballaggi particolari: CASE DI LEGNO COMPENSATO
Tempi di consegna: 10~25 giorni del lavoro
Termini di pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacità di alimentazione: 100000kgs/M
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Informazioni dettagliate
Materiale: Nichel che farfuglia obiettivo Processo: CIP, pressatura del HIP
Dimensione: Su misura applicazione: sistema di rivestimento del pvd
Forma: Giro, piatto, metropolitana Granulometria: Dimensione a grana fine, buona densità
Purezza:: 99,95%, 99,99%, 99,999% Densità: 8.9g/cm3
Evidenziare:

Nicheli farfugliare gli obiettivi per l'annuncio pubblicitario

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Farfugliare gli obiettivi per le applicazioni di ricerca

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8

Descrizione di prodotto

Nicheli farfugliare la purezza 99,95%, 99,99%, 99,999% dell'obiettivo

Materiale di elevata purezza, materiale ultraelevato di purezza, materiale di elevata purezza a semiconduttore


Il mondo dei materiali fornisce i materiali di grande purezza da 4N a 7N: mentre le materie prime dell'industria a semiconduttore e dell'industria elettronica, materiali di grande purezza sono ampiamente usate in vari campi industriali, compreso le coperture luminescenti del campo, thermoelectronics, l'elettronica, le informazioni, l'infrarosso, le pile solari, le leghe ad alto rendimento, ecc. stregare il matech assicura una gamma completa di materiali ultraelevati della purezza per soddisfare le esigenze dei clienti nazionali ed internazionali. Non solo forniamo le materie prime di grande purezza, ma anche possiamo fare le varie materie prime di grande purezza per i clienti, quale il magnetron ultraelevato del metallo della purezza farfugliare l'obiettivo, magnetron della pila solare farfugliare l'obiettivo, materiale di rivestimento solare di evaporazione del film, vergella di grande purezza elettronica, striscia, polvere…


Farfugliare il rifornimento della superficie posteriore dell'obiettivo, servizio legante: il centro fornisce varia superficie posteriore dell'obiettivo farfugliare, compreso rame senza ossigeno, molibdeno, alluminio, acciaio inossidabile ed altri materiali. Allo stesso tempo, fornisce il servizio di saldatura fra l'obiettivo ed il piatto posteriore.

 

Il nichel che farfuglia l'obiettivo 99,99%, nichel che farfuglia l'obiettivo 99,99% è disponibile nelle dimensioni varianti

 

D100x40mm, D101.6x3.175mm ecc

 

Nome di prodotto Elemento Purirty ℃ di punto di fusione Densità (g/cc) Forme disponibili
Alto nastro puro AG 4N-5N 961 10,49 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto alluminio puro Al 4N-6N 660 2,7 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto oro puro Au 4N-5N 1062 19,32 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto bismuto puro Bi 5N-6N 271,4 9,79 Particella, obiettivo
Alto cadmio puro CD 5N-7N 321,1 8,65 Particella, obiettivo
Alto cobalto puro Co 4N 1495 8,9 Particella, obiettivo
Alto cromo puro Cr 3N-4N 1890 7,2 Particella, obiettivo
Alto rame puro Cu 3N-6N 1083 8,92 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto ferro puro Fe 3N-4N 1535 7,86 Particella, obiettivo
Alto germanio puro GE 5N-6N 937 5,35 Particella, obiettivo
Alto indio puro In 5N-6N 157 7,3 Particella, obiettivo
Alto magnesio puro Mg 4N 651 1,74 Cavo, particella, obiettivo
Alto magnesio puro Mn 3N 1244 7,2 Cavo, particella, obiettivo
Alto molibdeno puro Mo 4N 2617 10,22 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto niobio puro N.B.: 4N 2468 8,55 Cavo, obiettivo
Alto nichel puro Ni 3N-5N 1453 8,9 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto cavo puro Pb 4N-6N 328 11,34 Particella, obiettivo
Alto palladio puro Palladio 3N-4N 1555 12,02 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto platino puro Pinta 3N-4N 1774 21,5 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto silicio puro Si 5N-7N 1410 2,42 Particella, obiettivo
Alta latta pura Sn 5N-6N 232 7,75 Cavo, particella, obiettivo
Alto tantalio puro Tum 4N 2996 16,6 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto tellurio puro Te 4N-6N 425 6,25 Particella, obiettivo
Alto titanio puro Ti 4N-5N 1675 4,5 Cavo, particella, obiettivo
Alto tungsteno puro W 3N5-4N 3410 19,3 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto zinco puro Zn 4N-6N 419 7,14 Cavo, strato, particella, obiettivo
Alto zirconio puro Zr 4N 1477 6,4 Cavo, strato, particella, obiettivo

 

 

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Prodotto Tag:

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